特·温尼克召集核心团队,下达了死命令:“必须持续投入资源,优化NXE3100。”
核心目标:提升光刻精度和稳定性!
这是维持阿斯唛王座,乃至开拓更先进制程光刻机,如:正在研发的EUV光刻机的基础!
总裁皮特温尼克认为,只要阿斯唛正在研发的EUV光刻机一问世,光刻机领域从此就只会剩下两类厂家:阿斯唛的EUV光刻机,和其他的DUV光刻机。
到那时候,阿斯唛一旦垄断了EUV光刻机市场,才真正到了稳坐钓鱼台,过躺着赚钱的日子!
技术总监迅速拆解了任务,需要提升光刻机的精度与稳定性,主要依赖三大支柱:
1、更纯净、更稳定的光源系统(激光器)。
2、更智能、更强大的光刻计算光刻(ComputationalLithography)算法。
3、更高精度的运动控制与对准技术(核心是超精密测量与执行器件,如.超高精度陀螺仪用于晶圆台和掩模台的纳米级稳定与定位)。
供应链负责人被赋予了重任。
他迅速将团队分组:一组去考察激光器巨头西蒙和蔡斯公司,一组去硅谷寻求顶尖的计算光刻软件公司,最后一组,则负责寻找超精密运动控制解决方案。
保罗被分在了超精密技术组。
他的同事被派往北美,目标直指该领域的绝对王者--霍尔尼尔(Honeywall)和老二AEO(AlliedElactronics&Optics),希望能采购到其最顶级的精密运动控制模块。
而保罗的任务则是前往亚洲,考察霓虹的东之、TDK等可能具备相关超精密技术的公司。
“保罗!”
供应链负责人将任务书递给他,特意补充道:“另外需要提醒你的是,今年3月份的国际工业博览会将在种花的深城举行,你亚洲之行结束后,顺道去深城看看”
“你留意一下,有没有可能找到能提供精度在0.001°/h到0.0001°/h的超精密陀螺仪供应商,温尼克总裁对这个指标很关注,他认为这对我们下一代EUV光刻机的稳定性至关重要!”
保罗接过文件,作为资深技术专家,他忍不住苦笑吐槽。